焼成炉・乾燥炉(加熱装置)

波長制御システム

概要

波長制御乾燥システムは、日本ガイシが独自に開発した光(=赤外線)を使った新しい乾燥装置です。特定の赤外線を照射することで、従来の乾燥システムでは困難であった低温乾燥を実現。基材へのダメージを抑えつつ乾燥効果を発揮する画期的なシステムとして、産業界から注目を集めています。

波長制御システム

特長

従来システムにおける課題

  • 乾燥時の熱ダメージ

    熱風乾燥ではフィルムや塗布物への熱ダメージが大きく熱に弱い材料を使えない

  • 製品内部の脱水

    製品内部の水分を除去するためには真空装置を使うため、生産性・コストに難あり

  • 厚膜品の乾燥

    厚い塗布物は表面の膜張りや発泡が発生するため均一乾燥が難しい

日本ガイシからの提案

  • PI 基材⇒PET 基材へ
  • 大気圧下・連続で脱水
  • 300μm以上の厚膜乾燥

波長制御システムで期待される効果《主な効果》

①低温乾燥

含有成分や樹脂基材への熱ダメージを抑制しつつ、溶媒を乾燥できる
ex) 40℃で水分を乾燥可能

乾燥時の温度制約により使えなかった成分や素材を使用可能

②内部脱水

製品内部に残存する水分を乾燥可能
ex) 大気圧下でppmオーダーまで絶乾可能

真空装置が不要となり、製造コスト・時間を削減できる

③厚膜乾燥

表面の膜張りを防ぎ、熱風では乾燥できない厚膜品の内部乾燥を促進
ex) dry 厚み300μm の厚膜を乾燥。熱風限界:100μm

有効成分の含有量の増加、製造工程の短縮が可能

波長制御システム

"光"で乾燥 波長制御乾燥システム

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