沿革

製品史略年表

• 1919~1930

  1919

  日本碍子株式会社設立

  1923

  ブッシングの生産を開始

  1929

  100万V級の高電圧電気試験設備が完成

  1930

  「NGスパークプラグ」の製造販売を開始

  1934年に「NGKスパークプラグ」に改称

  1936年日本特殊陶業の設立に伴いスパークプラグの生産を移管

  浸透性素地の研究を開始

  

  

• 1931～1940

  1931

  耐酸ポンプを初納入
  耐酸モルタルの生産を開始

  1932

  化学磁器の販売を開始

  1934

  散気板を初納入

  1938

  チタニウム磁器を開発

  

  

• 1941～1950

  1943

  短波ガイシの生産を開始

  

• 1951～1960

  1953

  中実SPガイシの生産を開始

  1954

  炭化ケイ素系の焼成窯用棚材・支柱を開発

  1955

  ベリリウムの研究を開始

  1958

  ベリリウム銅母合金の製造販売を開始

  

  

• 1961～1970

  1961

  長幹ガイシを開発
  ドライタイプ・コンデンサーブッシングを開発

  1962

  大型ガイ管（押出製法）を開発
  急速ろ過池用集水装置（有孔ブロック）の技術をレオポルド社（米国）から導入

  1963

  ガイシ洗浄装置を初納入

  1967

  上水汚泥脱水装置を初納入
  下水汚泥脱水装置を初納入
  酸素分析計を初納入

  1968

  透光性アルミナ「ハイセラム」を開発

  1970

  産業廃棄物焼却炉を初納入

  

  

  

  

• 1971～1980

  1972

  100万V級試験変圧器用油浸紙コンデンサーブッシングを開発
  グラスライニングの製造技術をディートリヒ社（フランス）から導入

  1973

  名神高速道路にセラミック防音壁を納入

  1974

  流動床式汚泥焼却装置を初納入
  ローラーハースキルンを初納入
  タイヤ用金型の販売を開始

  1976

  自動車排ガス浄化用触媒担体セラミックスの生産を開始

  1977

  「ハニセラム」で商標登録

  1978

  低レベル放射性廃棄物処理装置を初納入
  ホーロー建材「NGKウォール」の販売を開始
  100万V級（UHV）70・84トン懸垂ガイシを開発

  

  

  

  

  

• 1981～1990

  1981

  磁気ヘッド用フェライトの新製法を開発

  1982

  自動車用酸素センサーの生産を開始
  全面曝気装置を岡山県に初納入

  1983

  ビールろ過用セラミックフィルターを開発

  1984

  ナトリウム硫黄電池用ベータアルミナの研究を開始

  1986

  セラミック・ターボチャージャー・ローターを初納入
  送電用避雷装置を開発

  1987

  バイオリアクターを初納入
  アルミ繊維の吸音材を開発
  ナトリウム硫黄電池の研究を開始

  1989

  ディーゼル・パティキュレート・フィルター（DPF）の生産を開始

  1990

  不燃性雑固体廃棄物処理用「高圧縮プレスシステム」を初納入

  

  

  

  

  

• 1991～2000

  1991

  旋回流式汚泥溶融設備を初納入

  1992

  NAS電池の実用原型モデルによる系統連携運転を開始

  1995

  UHV用ガスブッシングを製品化
  インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターを開発

  1996

  半導体製造装置用セラミックスの量産を開始
  自動車排ガス用NOxセンサーを開発
  高周波溶融固化システムを開発

  1997

  光ファイバージャイロ用光導波路デバイスの量産を開始
  日本初のセラミック膜浄水システムを開発

  1998

  インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターの生産を開始
  ガラス製ハードディスク基板の量産を開始

  1999

  プラズマディスプレーパネル（PDP）製造用乾燥炉・焼成炉を開発

  

  

  

  

  

• 2001～2010

  2001

  高出力・高性能青色レーザー用SHG素子を開発
  圧電セラミックディスプレイを開発

  2002

  家庭用浄水器「C1（シー・ワン）」を発売
  MFI型ゼオライト製ガス分離膜を開発

  2003

  NAS電池の量産を開始

  2004

  小児がん予後診断用DNAマイクロアレイを開発

  2005

  HDD用圧電マイクロアクチュエーターを開発

  2006

  AEP社（米国）でNAS電池が海外初の商用稼働を開始

  2007

  サブナノセラミック膜を開発

  2008

  車載用高精度NOxセンサーを開発

  2009

  平板円筒型（流路内蔵）セルを用いた固体酸化物形燃料電池（SOFC）を開発
  雰囲気ローラーハースキルンを開発

  

  

  

  

  

  

  

• 2011～2020

  2011

  C1スリムタイプを発売
  表面弾性波（SAW）フィルター用複合ウエハーを開発

  2012

  超高輝度LED（発光ダイオード）用の窒化ガリウム（GaN）ウエハーを開発
  波長制御乾燥システムを開発
  ガソリン・パティキュレート・フィルター（GPF）を実用化

  2013

  ジルコニウム銅ワイヤーを開発

  2015

  コンテナ型NAS電池を開発
  超小型のHDD用圧電マイクロアクチュエーターを事業化

  2018

  紫外LED用マイクロレンズを事業化
  レーザー光源用窒化ガリウム（GaN）ウエハーを事業化

  2019

  チップ型セラミックス二次電池「EnerCera」シリーズを事業化

  

  

  

  

  

• 2021～

  2021

  ハニセラム累計生産個数18億個を達成

企業史略年表

• 1919～1930

  1919

  日本陶器のガイシ部門が独立し、日本碍子が誕生
  大倉和親社長（初代）就任

  

  

• 1931～1940

  1936

  スパークプラグ部門が日本特殊陶業として分離独立

  1939

  江副孫右衛門社長（第2代）就任

• 1941～1950

  1942

  愛知県半田市に知多工場が完成

  1944

  森村義行社長（第3代）就任

  1946

  日本碍子労働組合発足

  1948

  吉本熊夫社長（第4代）就任

  1950

  旭可鍛鉄（現旭テック）に資本参加

  

• 1951～1960

  1951

  社内報『みづほ』創刊（1958年『みずほ』に改題）

  1956

  富士窯業（現NGKアドレック）に資本参加
  インド駐在員事務所（ボンベイ）を開設

  1957

  熱田工場が完成
  当社が技術協力したインド・マイソール州のガイシ工場が完成

  1959

  野淵三治社長（第5代）就任
  事業部制を導入、化工機部・新商品部を設置

  

  

  

• 1961～1970

  1961

  明知碍子（現明知ガイシ）に資本参加

  1962

  愛知県小牧市に小牧工場が完成
  ヨーロッパ駐在員事務所（西ドイツ・ハンブルク）を開設
  米国駐在員事務所（ニューヨーク）を開設

  1965

  NGKアメリカ（現NGKロック）を設立
  高松電気製作所（現エナジーサポート）に資本参加

  1968

  超高圧試験所（現電力技術研究所）が完成
  知多工場にブッシング工場が完成
  池袋琺瑯工業に資本参加
  NGKカナダを設立

  1969

  福田克美社長（第6代）就任

  1970

  日本万国博覧会に日本陶器と共同で「風のモビール」を出展

  

  

• 1971～1980

  1973

  ロックインシュレーターズ（米国）を設立

  1974

  超高圧試験所内に碍子博物館が完成

  1975

  トーチューベリアロイ工業（現NGKメテックス）に資本参加

  1976

  ブランドマークを「NGK」に統一、コーポレートカラーを決定
  多治見カントリークラブがオープン
  事業本部制を導入（電力・機械装置・特品の3事業本部発足）

  1977

  竹見淳一社長（第7代）就任
  NGKボドゥール（ベルギー）を設立
  NGKヨーロッパ（ベルギー）を設立

  1979

  超高圧研究所にUHV用汚損ホールが完成

  

  

  

• 1981～1990

  1984

  NGKエレクトロニクスを設立

  1985

  NGKセラミックスヨーロッパ（ベルギー）を設立
  NGKヨーロッパ（ドイツ）を設立

  1986

  小原敏人社長（第8代）就任
  社名表記を「日本ガイシ」に変更
  企業理念、新コーポレートマークを制定
  NGKメタルズ（米国）を設立
  NGKノースアメリカを設立

  1987

  ウィカNGKインシュレーターズ（インドネシア）を設立

  1988

  NGKセラミックスUSAを設立

  1989

  長期経営計画「Kプラン21」策定
  NGKキルンテックを設立
  NGKケミテックを設立

  1990

  NGKオホーツクを設立

  

  

• 1991～2000

  1991

  双信電機に資本参加
  NGKフィルテックを設立

  1993

  NGKスタンガー（オーストラリア）を設立

  1994

  柴田昌治社長（第9代）就任
  NGKプリンターセラミックスを設立
  NGKロックポリマーインシュレーターズ（米国）を設立

  1996

  NGKモールドとNGKベアロンを合併してNGKファインモールドを設立
  NGKセラミックスインドネシアを設立
  NGK唐山電瓷（中国）を設立

  1997

  中期経営計画「EXCÉL－01」を策定
  サイアムNGKテクノセラ（タイ）を設立

  1998

  NGKプリンターセラミックス山梨工場（現NGKセラミックデバイス山梨工場）が竣工

  2000

  NGKセラミックスサウスアフリカを設立

  

  

  

  

• 2001～2010

  2001

  NGK（蘇州）環保陶瓷（ACC、中国）を設立
  NGK（蘇州）精細陶瓷器具（中国）を設立

  2002

  松下雋社長（第10代）就任
  FMインダストリーズ（FMI、米国）の経営権を取得
  NGKオートモーティブセラミックスUSAを設立

  2003

  旭テックの株式を米投資ファンドに譲渡
  NGKセラミックスポーランド（ACP）を設立
  ビルラNGKインシュレーターズ（インド）を設立

  2005

  取締役会を改革し、執行役員制度を導入

  2006

  NGK（蘇州）電瓷（NGK蘇州、中国）を設立

  2007

  名古屋市総合体育館のネーミングライツを取得
  鳥羽総合研修センターが完成
  NGK水環境システムズを設立
  NGKオートモーティブセラミックスコリアを設立
  社外取締役制度を導入
  NGKインシュレーターズUKを設立

  2008

  NGKセラミックスメキシコを設立
  水環境事業を分社化しメタウォーター設立
  石川県能美市にハニセラム生産拠点の新設を決定

  2009

  ものづくり構造革新スタート

  2010

  ニューデリー事務所（インド）を開設

  

  

  

  

  

  

  

• 2011～2020

  2011

  加藤太郎社長（第11代）就任
  NAS電池の火災事故が発生
  NGKグループ企業行動指針を改定

  2012

  厚生労働省から子育てサポート企業として認定
  FMIが米国メーカーから半導体製造装置関連事業を買収
  ACPに大型ハニセラム新工場の建設を決定

  2013

  競争法ハンドブックを発行

  2014

  大島卓社長（第12代）就任
  NGK蘇州の解散を決定
  ACPでガソリン・パティキュレート・フィルター（GPF）の量産化を決定

  2015

  NGKエレクトロデバイスをグループ会社化
  ACP第2工場の新設を決定
  石川にNOxセンサー用素子工場新設を決定
  NGKテクノロジーズインディアを設立
  NGKセラミックスタイランドを設立
  自動車用触媒担体の取り引きに関して反トラスト法違反などで米国司法省と司法取引に合意

  2016

  ACCでGPF生産を発表

  2017

  FMIが新工場を開設
  25年ぶりに一般職人事制度を改定
  65歳定年制を導入
  岐阜県多治見市に半導体製造装置用セラミック製品の新工場の建設を決定
  ロックインシュレーターズ（米国）の解散を決定
  ACCの第2工場の建設を決定

  2018

  プロセステクノロジー事業本部を新設し4事業本部制へ
  ガイシなど電力事業本部製品の受渡検査に関する不整合について発表
  危険体感予知道場で体感教育を開始

  2019

  NGKグループ企業行動指針を改定
  NGKグループ理念を発表
  NGK唐山の解散を決定

  

  

  

  

  

• 2021～

  2021

  小林茂社長（第13代）就任
  中長期ビジョン「NGKグループビジョン Road to 2050」を策定

  2023

  NGKグループ企業行動指針を改定し、NGKグループ行動規範を制定

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