企業情報
沿革
製品史略年表
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- 1919
- 日本碍子株式会社設立
- 1923
- ブッシングの生産を開始
- 1929
- 100万V級の高電圧電気試験設備が完成
- 1930
-
「NGスパークプラグ」の製造販売を開始
1934年に「NGKスパークプラグ」に改称
1936年日本特殊陶業の設立に伴いスパークプラグの生産を移管
浸透性素地の研究を開始
100万V級高電圧電気試験設備 NGスパークプラグ -
- 1931
- 耐酸ポンプを初納入
耐酸モルタルの生産を開始
- 1932
- 化学磁器の販売を開始
- 1934
- 散気板を初納入
- 1938
- チタニウム磁器を開発
耐酸ポンプ 散気板 -
- 1943
- 短波ガイシの生産を開始
短波ガイシ -
- 1953
- 中実SPガイシの生産を開始
- 1954
- 炭化ケイ素系の焼成窯用棚材・支柱を開発
- 1955
- ベリリウムの研究を開始
- 1958
- ベリリウム銅母合金の製造販売を開始
中実SPガイシ ベリリウム銅母合金 -
- 1961
- 長幹ガイシを開発
ドライタイプ・コンデンサーブッシングを開発
- 1962
- 大型ガイ管(押出製法)を開発
急速ろ過池用集水装置(有孔ブロック)の技術をレオポルド社(米国)から導入
- 1963
- ガイシ洗浄装置を初納入
- 1967
- 上水汚泥脱水装置を初納入
下水汚泥脱水装置を初納入
酸素分析計を初納入
- 1968
- 透光性アルミナ「ハイセラム」を開発
- 1970
- 産業廃棄物焼却炉を初納入
有孔ブロック ガイシ洗浄装置 酸素分析計 透光性アルミナ「ハイセラム」 -
- 1972
- 100万V級試験変圧器用油浸紙コンデンサーブッシングを開発
グラスライニングの製造技術をディートリヒ社(フランス)から導入
- 1973
- 名神高速道路にセラミック防音壁を納入
- 1974
- 流動床式汚泥焼却装置を初納入
ローラーハースキルンを初納入
タイヤ用金型の販売を開始
- 1976
- 自動車排ガス浄化用触媒担体セラミックスの生産を開始
- 1977
- 「ハニセラム」で商標登録
- 1978
- 低レベル放射性廃棄物処理装置を初納入
ホーロー建材「NGKウォール」の販売を開始
100万V級(UHV)70・84トン懸垂ガイシを開発
流動床式汚泥焼却装置 タイヤ用金型 自動車排ガス浄化用触媒担体「ハニセラム」 低レベル放射性廃棄物処理装置 ホーロー建材「NGKウォール」 -
- 1981
- 磁気ヘッド用フェライトの新製法を開発
- 1982
- 自動車用酸素センサーの生産を開始
全面曝気装置を岡山県に初納入
- 1983
- ビールろ過用セラミックフィルターを開発
- 1984
- ナトリウム硫黄電池用ベータアルミナの研究を開始
- 1986
- セラミック・ターボチャージャー・ローターを初納入
送電用避雷装置を開発
- 1987
- バイオリアクターを初納入
アルミ繊維の吸音材を開発
ナトリウム硫黄電池の研究を開始
- 1989
- ディーゼル・パティキュレート・フィルター(DPF)の生産を開始
- 1990
- 不燃性雑固体廃棄物処理用「高圧縮プレスシステム」を初納入
磁気ヘッド用フェライト 自動車用酸素センサー セラミック・ターボチャージャー・ローター バイオリアクター ディーゼル・パティキュレート・フィルター(DPF) -
- 1991
- 旋回流式汚泥溶融設備を初納入
- 1992
- NAS電池の実用原型モデルによる系統連携運転を開始
- 1995
- UHV用ガスブッシングを製品化
インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターを開発
- 1996
- 半導体製造装置用セラミックスの量産を開始
自動車排ガス用NOxセンサーを開発
高周波溶融固化システムを開発
- 1997
- 光ファイバージャイロ用光導波路デバイスの量産を開始
日本初のセラミック膜浄水システムを開発
- 1998
- インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターの生産を開始
ガラス製ハードディスク基板の量産を開始
- 1999
- プラズマディスプレーパネル(PDP)製造用乾燥炉・焼成炉を開発
NAS電池の実用原型モデル UHV用ガスブッシング インクジェットプリンター用
圧電マイクロアクチュエーター半導体製造装置用セラミックス ガラス製ハードディスク基板 -
- 2001
- 高出力・高性能青色レーザー用SHG素子を開発
圧電セラミックディスプレイを開発
- 2002
- 家庭用浄水器「C1(シー・ワン)」を発売
MFI型ゼオライト製ガス分離膜を開発
- 2003
- NAS電池の量産を開始
- 2004
- 小児がん予後診断用DNAマイクロアレイを開発
- 2005
- HDD用圧電マイクロアクチュエーターを開発
- 2006
- AEP社(米国)でNAS電池が海外初の商用稼働を開始
- 2007
- サブナノセラミック膜を開発
- 2008
- 車載用高精度NOxセンサーを開発
- 2009
- 平板円筒型(流路内蔵)セルを用いた固体酸化物形燃料電池(SOFC)を開発
雰囲気ローラーハースキルンを開発
圧電セラミックディスプレイ 家庭用浄水器「C1(シー・ワン)」 MFI型ゼオライト製ガス分離膜 NAS電池 小児がん予後診断用DNAマイクロアレイ サブナノセラミック膜 車載用高精度NOxセンサー -
- 2011
- C1スリムタイプを発売
表面弾性波(SAW)フィルター用複合ウエハーを開発
- 2012
- 超高輝度LED(発光ダイオード)用の窒化ガリウム(GaN)ウエハーを開発
波長制御乾燥システムを開発
ガソリン・パティキュレート・フィルター(GPF)を実用化
- 2013
- ジルコニウム銅ワイヤーを開発
- 2015
- コンテナ型NAS電池を開発
超小型のHDD用圧電マイクロアクチュエーターを事業化
- 2018
- 紫外LED用マイクロレンズを事業化
レーザー光源用窒化ガリウム(GaN)ウエハーを事業化
- 2019
- チップ型セラミックス二次電池「EnerCera」シリーズを事業化
表面弾性波(SAW)フィルター用複合ウエハー 窒化ガリウム(GaN)ウエハー 超小型HDD用圧電マイクロアクチュエータ― 紫外LED用マイクロレンズ チップ型セラミックス二次電池「EnerCera」シリーズ -
- 2021
- ハニセラム累計生産個数18億個を達成
企業史略年表
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- 1919
- 日本陶器のガイシ部門が独立し、日本碍子が誕生
大倉和親社長(初代)就任
創立時役員(中央:大倉社長) 創立当時の本社工場 -
- 1936
- スパークプラグ部門が日本特殊陶業として分離独立
- 1939
- 江副孫右衛門社長(第2代)就任
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- 1942
- 愛知県半田市に知多工場が完成
- 1944
- 森村義行社長(第3代)就任
- 1946
- 日本碍子労働組合発足
- 1948
- 吉本熊夫社長(第4代)就任
- 1950
- 旭可鍛鉄(現旭テック)に資本参加
知多工場 -
- 1951
- 社内報『みづほ』創刊(1958年『みずほ』に改題)
- 1956
- 富士窯業(現NGKアドレック)に資本参加
インド駐在員事務所(ボンベイ)を開設
- 1957
- 熱田工場が完成
当社が技術協力したインド・マイソール州のガイシ工場が完成
- 1959
- 野淵三治社長(第5代)就任
事業部制を導入、化工機部・新商品部を設置
社内報『みづほ』創刊号 インド・マイソール州のガイシ工場 熱田工場 -
- 1961
- 明知碍子(現明知ガイシ)に資本参加
- 1962
- 愛知県小牧市に小牧工場が完成
ヨーロッパ駐在員事務所(西ドイツ・ハンブルク)を開設
米国駐在員事務所(ニューヨーク)を開設
- 1965
- NGKアメリカ(現NGKロック)を設立
高松電気製作所(現エナジーサポート)に資本参加
- 1968
- 超高圧試験所(現電力技術研究所)が完成
知多工場にブッシング工場が完成
池袋琺瑯工業に資本参加
NGKカナダを設立
- 1969
- 福田克美社長(第6代)就任
- 1970
- 日本万国博覧会に日本陶器と共同で「風のモビール」を出展
小牧工場 超高圧試験所 -
- 1973
- ロックインシュレーターズ(米国)を設立
- 1974
- 超高圧試験所内に碍子博物館が完成
- 1975
- トーチューベリアロイ工業(現NGKメテックス)に資本参加
- 1976
- ブランドマークを「NGK」に統一、コーポレートカラーを決定
多治見カントリークラブがオープン
事業本部制を導入(電力・機械装置・特品の3事業本部発足)
- 1977
- 竹見淳一社長(第7代)就任
NGKボドゥール(ベルギー)を設立
NGKヨーロッパ(ベルギー)を設立
- 1979
- 超高圧研究所にUHV用汚損ホールが完成
碍子博物館 NGKボドゥール UHV用汚損ホール -
- 1984
- NGKエレクトロニクスを設立
- 1985
- NGKセラミックスヨーロッパ(ベルギー)を設立
NGKヨーロッパ(ドイツ)を設立
- 1986
- 小原敏人社長(第8代)就任
社名表記を「日本ガイシ」に変更
企業理念、新コーポレートマークを制定
NGKメタルズ(米国)を設立
NGKノースアメリカを設立
- 1987
- ウィカNGKインシュレーターズ(インドネシア)を設立
- 1988
- NGKセラミックスUSAを設立
- 1989
- 長期経営計画「Kプラン21」策定
NGKキルンテックを設立
NGKケミテックを設立
- 1990
- NGKオホーツクを設立
NGKセラミックスヨーロッパ NGKメタルズ -
- 1991
- 双信電機に資本参加
NGKフィルテックを設立
- 1993
- NGKスタンガー(オーストラリア)を設立
- 1994
- 柴田昌治社長(第9代)就任
NGKプリンターセラミックスを設立
NGKロックポリマーインシュレーターズ(米国)を設立
- 1996
- NGKモールドとNGKベアロンを合併してNGKファインモールドを設立
NGKセラミックスインドネシアを設立
NGK唐山電瓷(中国)を設立
- 1997
- 中期経営計画「EXCÉL-01」を策定
サイアムNGKテクノセラ(タイ)を設立
- 1998
- NGKプリンターセラミックス山梨工場(現NGKセラミックデバイス山梨工場)が竣工
- 2000
- NGKセラミックスサウスアフリカを設立
NGKスタンガー NGKロックポリマーインシュレーターズ サイアムNGKテクノセラ NGKセラミックスサウスアフリカ -
- 2001
- NGK(蘇州)環保陶瓷(ACC、中国)を設立
NGK(蘇州)精細陶瓷器具(中国)を設立
- 2002
- 松下雋社長(第10代)就任
FMインダストリーズ(FMI、米国)の経営権を取得
NGKオートモーティブセラミックスUSAを設立
- 2003
- 旭テックの株式を米投資ファンドに譲渡
NGKセラミックスポーランド(ACP)を設立
ビルラNGKインシュレーターズ(インド)を設立
- 2005
- 取締役会を改革し、執行役員制度を導入
- 2006
- NGK(蘇州)電瓷(NGK蘇州、中国)を設立
- 2007
- 名古屋市総合体育館のネーミングライツを取得
鳥羽総合研修センターが完成
NGK水環境システムズを設立
NGKオートモーティブセラミックスコリアを設立
社外取締役制度を導入
NGKインシュレーターズUKを設立
- 2008
- NGKセラミックスメキシコを設立
水環境事業を分社化しメタウォーター設立
石川県能美市にハニセラム生産拠点の新設を決定
- 2009
- ものづくり構造革新スタート
- 2010
- ニューデリー事務所(インド)を開設
NGK(蘇州)環保陶瓷 NGK(蘇州)精細陶瓷器具 FMインダストリーズ NGKセラミックスポーランド ネーミングライツを取得した名古屋市総合体育館 NGKセラミックスメキシコ 石川工場 -
- 2011
- 加藤太郎社長(第11代)就任
NAS電池の火災事故が発生
NGKグループ企業行動指針を改定
- 2012
- 厚生労働省から子育てサポート企業として認定
FMIが米国メーカーから半導体製造装置関連事業を買収
ACPに大型ハニセラム新工場の建設を決定
- 2013
- 競争法ハンドブックを発行
- 2014
- 大島卓社長(第12代)就任
NGK蘇州の解散を決定
ACPでガソリン・パティキュレート・フィルター(GPF)の量産化を決定
- 2015
- NGKエレクトロデバイスをグループ会社化
ACP第2工場の新設を決定
石川にNOxセンサー用素子工場新設を決定
NGKテクノロジーズインディアを設立
NGKセラミックスタイランドを設立
自動車用触媒担体の取り引きに関して反トラスト法違反などで米国司法省と司法取引に合意
- 2016
- ACCでGPF生産を発表
- 2017
- FMIが新工場を開設
25年ぶりに一般職人事制度を改定
65歳定年制を導入
岐阜県多治見市に半導体製造装置用セラミック製品の新工場の建設を決定
ロックインシュレーターズ(米国)の解散を決定
ACCの第2工場の建設を決定
- 2018
- プロセステクノロジー事業本部を新設し4事業本部制へ
ガイシなど電力事業本部製品の受渡検査に関する不整合について発表
危険体感予知道場で体感教育を開始
- 2019
- NGKグループ企業行動指針を改定
NGKグループ理念を発表
NGK唐山の解散を決定
競争法ハンドブック NGKセラミックスタイランド NGKセラミックデバイス多治見工場 ACC第2工場 危険体感予知道場 -
- 2021
- 小林茂社長(第13代)就任
中長期ビジョン「NGKグループビジョン Road to 2050」を策定
- 2023
- NGKグループ企業行動指針を改定し、NGKグループ行動規範を制定
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