半導体製造装置用セラミックス

ハイパフォーマンスのファインセラミックスで、半導体製造に変革をもたらします。

概要

半導体製造装置用セラミックス

ファインセラミックスは金属やプラスチックに比べて強度、耐食性、耐熱性に優れるなど、魅力的な特長を持つマテリアルです。

日本ガイシでは、これらの特長を最大限に引き出し、種々の産業に応用しています。なかでも半導体製造プロセスに大きな変革をもたらすセラミックヒーターや静電チャックなど、ファインセラミックスの持つ無限の可能性を引き出しています。

特長

半導体製造に欠かせない化学気相成長(CVD)やエッチングのプロセス。半導体製造装置の中枢部品であるサセプターにはシリコンウエハーを保持し、均一に加熱し、しかもガスやプラズマには腐食されにくい、といったことが要求されます。日本ガイシはこれらの要求に応えるべく、窒化アルミニウム(AlN)を中心に材料の持つ特長を引き出し、半導体製造装置に使用されるヒーター、静電チャック、各種パーツを製品化しています。

製品ラインアップ

半導体製造装置用セラミックスに関するお問い合わせ

HPC事業部営業部 東京営業所