半導体製造装置用セラミックス

各種パーツ

概要

高度な技術でさまざまな形状のパーツを提供しています。

特長

窒化アルミニウム(AlN)

窒化アルミニウム(AlN)

  • 高純度(〜99.9%)
  • 熱伝導率(〜170W/mK)
  • 耐食性、耐プラズマ性

[製品例]

シャフト、チューブ、サセプターリング

アルミナ

アルミナ(AlN)

  • 高純度(〜99.9%)
  • 耐食性、耐プラズマ性
  • 複雑形状対応
  • 大型製品対応

[製品例]

リング、アーム

AlNの材料特性

  Aluminum Nitride
HA-12 HA-37/38 HA-50/51
純度 [%] 95 99.8 99
密度 [g/cc] 3.3 3.3 3.3
体積抵抗率 [Ωcm](25℃) >1E+15 1E+8〜+12 >1E+15
熱伝導率 [W/mK](25℃) 170 90 80
熱容量 [J/kgK] 750 750 750
熱膨張系数 [×10-6/℃] 5.7(1000℃) 5.0(1000℃) 5.6(1000℃)
強度 [MPa] 400 400 310
ビッカーズ硬さ [GPa] 9.8 10.7 -
ヤング率 [GPa] 300 300 300
誘電率   8.6 8.8 8.6

Al2O3の材料特性

[代表値]

  Alumina
99.9% 99.5%
純度 [%] 99.9 99.5
密度 [g/cc] 3.9 3.9
体積抵抗率 [Ωcm](25℃) - ≧1014
熱伝導率 [W/mK] - 35
熱容量 [J/kgK] - 790
熱膨張系数 [×10-6/℃] 8.0(800℃) 8.0(800℃)
強度 [MPa] 420 310
ビッカーズ硬さ [GPa] - -
ヤング率 [GPa] - 360
ポアソン比 - - 0.26
誘電率   - -

半導体製造装置用セラミックスに関するお問い合わせ

HPC事業部営業部 東京営業所