加熱装置(焼成炉・乾燥炉)

セル量産試験焼成炉

WB搬送、製品端面支持を採用することで、省エネと急昇温冷却を実現。

概要

適用例:各種薄板ワーク(Si・ガラス基板等)適用例:各種薄板ワーク(Si・ガラス基板等)

主として多結晶太陽電池シリコンセルの電極焼付けをターゲットとした量産炉とほぼ同型の試験炉をご用意いたしました。

ロード・アンロード設備も併設し、搬送確認も併せて行っていただけます。また量産型と同タイプとすることで、具体的なメンテナンス方法についても試験場にてご確認いただけます。150mm程度の小型ガラス基板の加熱試験も行っていただけます。

仕様

プリヒート部
遠赤外線加熱 Max400℃ タクト搬送
焼成部
近赤外線加熱 Max900℃ 最速6秒加熱可能

*焼成部分のみの加熱試験(短時間焼成)可能。

炉形式 WB炉 付帯 150のSiウェハーのローダー付き
温度 プリヒート Max400℃
焼成 Max900℃
ワーク条件 150〜156(4列対応可能)
200(2列対応可能)
雰囲気 大気
搬送速度 10sec/タクト(常用)サーボにて可変 付帯設備 前後にワーク投入、搬出装置
※150〜156ワークのみ4列対応
※投入・排出速度は、炉搬送速度で制御
排気ガス処理装置として、ミストレーサあり
給気容量 プリヒート 前半・後半とも150L/min
炉長 外寸 全長
1900L(プリヒート1350、焼成550)×1600W×609H

セル量産試験焼成炉 概略仕様図

セル量産試験焼成炉 概略仕様図

セル量産試験焼成炉 概略仕様図

メッシュベルト炉との性能比較・効果

NGK開発炉・メッシュベルト炉比較(データ)

NGK独自の端面支持搬送により熱損失を大幅に低減した結果、使用電力を約1/3に、炉長を約1/2にすることに成功しました。

NGK開発炉・メッシュベルト炉比較(データ)

炉内概略温度分布

炉内概略温度分布

セル温度推移

セル温度推移

加熱試験場をご利用ください

日本ガイシでは、最新炉をはじめ多様な焼成・乾燥炉を集約した加熱試験場「TEST LAB」を開設しています。

加熱試験場「TEST LAB」

「加熱試験場のご案内」パンフレットご希望の方へ

「加熱試験場のご案内」パンフレット

加熱・乾燥プロセスが必要な製品にとって、どのような環境で「熱処理」を行うかは、製品の性能やコストを左右する重要な決め手となります。

日本ガイシ産業プロセス事業部では、最新炉をはじめ多様な焼成・乾燥炉を集約し、TEST LAB として開設しています。

温度変化や雰囲気制御、ワーク搬送技術等をテストしていただくことで、より効率的な実証試験を行うことができます。

さらに、日本ガイシ独自の炉内シミュレーションソフトなど最新技術を活用することで、試験時間を大幅に短縮することが可能です。ぜひ、産業プロセス事業部「TEST LAB」のご活用をご検討ください。

「加熱試験場のご案内」パンフレット請求

加熱装置(焼成炉・乾燥炉)に関するお問い合わせ

産業プロセス事業部営業部