沿革
製品史略年表
- 1919
日本碍子株式会社設立
- 1923
ブッシングの生産を開始
- 1929
100万V級の高電圧電気試験設備が完成
- 1930
「NGスパークプラグ」の製造販売を開始
- ※1934年に「NGKスパークプラグ」に改称
- ※1936年日本特殊陶業の設立に伴いスパークプラグの生産を移管
浸透性素地の研究を開始
- 1931
耐酸ポンプを初納入
耐酸モルタルの生産を開始
- 1932
化学磁器の販売を開始
- 1934
散気板を初納入
- 1938
チタニウム磁器を開発
- 1943
短波ガイシの生産を開始
- 1953
中実SPガイシの生産を開始
- 1954
炭化ケイ素系の焼成窯用棚材・支柱を開発
- 1955
ベリリウムの研究を開始
- 1958
ベリリウム銅母合金の製造販売を開始
- 1961
長幹ガイシを開発
ドライタイプ・コンデンサーブッシングを開発
- 1962
大型ガイ管（押出製法）を開発
急速ろ過池用集水装置（有孔ブロック）の技術をレオポルド社（米国）から導入
- 1963
ガイシ洗浄装置を初納入
- 1967
上水汚泥脱水装置を初納入
下水汚泥脱水装置を初納入
酸素分析計を初納入
- 1968
透光性アルミナ「ハイセラム」を開発
- 1970
産業廃棄物焼却炉を初納入
- 1972
100万V級試験変圧器用油浸紙コンデンサーブッシングを開発
グラスライニングの製造技術をディートリヒ社（フランス）から導入
- 1973
名神高速道路にセラミック防音壁を納入
- 1974
流動床式汚泥焼却装置を初納入
ローラーハースキルンを初納入
タイヤ用金型の販売を開始
- 1976
自動車排ガス浄化用触媒担体セラミックスの生産を開始
- 1977
「ハニセラム」で商標登録
- 1978
低レベル放射性廃棄物処理装置を初納入
ホーロー建材「NGKウォール」の販売を開始
100万V級（UHV）70・84トン懸垂ガイシを開発
- 1981
磁気ヘッド用フェライトの新製法を開発
- 1982
自動車用酸素センサーの生産を開始
全面曝気装置を岡山県に初納入
- 1983
ビールろ過用セラミックフィルターを開発
- 1984
ナトリウム硫黄電池用ベータアルミナの研究を開始
- 1986
セラミック・ターボチャージャー・ローターを初納入
送電用避雷装置を開発
- 1987
バイオリアクターを初納入
アルミ繊維の吸音材を開発
ナトリウム硫黄電池の研究を開始
- 1989
ディーゼル・パティキュレート・フィルター（DPF）の生産を開始
- 1990
不燃性雑固体廃棄物処理用「高圧縮プレスシステム」を初納入
- 1991
旋回流式汚泥溶融設備を初納入
- 1992
NAS電池の実用原型モデルによる系統連携運転を開始
- 1995
UHV用ガスブッシングを製品化
インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターを開発
- 1996
半導体製造装置用セラミックスの量産を開始
自動車排ガス用NOxセンサーを開発
高周波溶融固化システムを開発
- 1997
光ファイバージャイロ用光導波路デバイスの量産を開始
日本初のセラミック膜浄水システムを開発
- 1998
インクジェットプリンター用圧電マイクロアクチュエーターの生産を開始
ガラス製ハードディスク基板の量産を開始
- 1999
プラズマディスプレーパネル（PDP）製造用乾燥炉・焼成炉を開発
圧電マイクロアクチュエーター
- 2001
高出力・高性能青色レーザー用SHG素子を開発
圧電セラミックディスプレイを開発
- 2002
家庭用浄水器「C1（シー・ワン）」を発売
MFI型ゼオライト製ガス分離膜を開発
- 2003
NAS電池の量産を開始
- 2004
小児がん予後診断用DNAマイクロアレイを開発
- 2005
HDD用圧電マイクロアクチュエーターを開発
- 2006
AEP社（米国）でNAS電池が海外初の商用稼働を開始
- 2007
サブナノセラミック膜を開発
- 2008
車載用高精度NOxセンサーを開発
- 2009
平板円筒型（流路内蔵）セルを用いた固体酸化物形燃料電池（SOFC）を開発
雰囲気ローラーハースキルンを開発
- 2011
C1スリムタイプを発売
表面弾性波（SAW）フィルター用複合ウエハーを開発
- 2012
超高輝度LED（発光ダイオード）用の窒化ガリウム（GaN）ウエハーを開発
波長制御乾燥システムを開発
ガソリン・パティキュレート・フィルター（GPF）を実用化
- 2013
ジルコニウム銅ワイヤーを開発
- 2015
コンテナ型NAS電池を開発
超小型のHDD用圧電マイクロアクチュエーターを事業化
- 2018
紫外LED用マイクロレンズを事業化
レーザー光源用窒化ガリウム（GaN）ウエハーを事業化
- 2019
チップ型セラミックス二次電池「EnerCera」シリーズを事業化
- 2025
ハニセラム累計生産個数20億個を達成
企業史略年表
- 1919
日本陶器のガイシ部門が独立し、日本碍子が誕生
大倉和親社長（初代）就任
- 1936
スパークプラグ部門が日本特殊陶業として分離独立
- 1939
江副孫右衛門社長（第2代）就任
- 1942
愛知県半田市に知多工場が完成
- 1944
森村義行社長（第3代）就任
- 1946
日本碍子労働組合発足
- 1948
吉本熊夫社長（第4代）就任
- 1950
旭可鍛鉄（現旭テック）に資本参加
- 1951
社内報『みづほ』創刊（1958年『みずほ』に改題）
- 1956
富士窯業（現NGKアドレック）に資本参加
インド駐在員事務所（ボンベイ）を開設
- 1957
熱田工場が完成
当社が技術協力したインド・マイソール州のガイシ工場が完成
- 1959
野淵三治社長（第5代）就任
事業部制を導入、化工機部・新商品部を設置
- 1961
明知碍子（現明知ガイシ）に資本参加
- 1962
愛知県小牧市に小牧工場が完成
ヨーロッパ駐在員事務所（西ドイツ・ハンブルク）を開設
米国駐在員事務所（ニューヨーク）を開設
- 1965
NGKアメリカ（現NGKロック）を設立
高松電気製作所（現エナジーサポート）に資本参加
- 1968
超高圧試験所（現電力技術研究所）が完成
知多工場にブッシング工場が完成
池袋琺瑯工業に資本参加
NGKカナダを設立
- 1969
福田克美社長（第6代）就任
- 1970
日本万国博覧会に日本陶器と共同で「風のモビール」を出展
- 1973
ロックインシュレーターズ（米国）を設立
- 1974
超高圧試験所内に碍子博物館が完成
- 1975
トーチューベリアロイ工業（現NGKメテックス）に資本参加
- 1976
ブランドマークを「NGK」に統一、コーポレートカラーを決定
多治見カントリークラブがオープン
事業本部制を導入（電力・機械装置・特品の3事業本部発足）
- 1977
竹見淳一社長（第7代）就任
NGKボドゥール（ベルギー）を設立
NGKヨーロッパ（ベルギー）を設立
- 1979
超高圧研究所にUHV用汚損ホールが完成
- 1984
NGKエレクトロニクスを設立
- 1985
NGKセラミックスヨーロッパ（ベルギー）を設立
NGKヨーロッパ（ドイツ）を設立
- 1986
小原敏人社長（第8代）就任
社名表記を「日本ガイシ」に変更
企業理念、新コーポレートマークを制定
NGKメタルズ（米国）を設立
NGKノースアメリカを設立
- 1987
ウィカNGKインシュレーターズ（インドネシア）を設立
- 1988
NGKセラミックスUSAを設立
- 1989
長期経営計画「Kプラン21」策定
NGKキルンテックを設立
NGKケミテックを設立
- 1990
NGKオホーツクを設立
- 1991
双信電機に資本参加
NGKフィルテックを設立
- 1993
NGKスタンガー（オーストラリア）を設立
- 1994
柴田昌治社長（第9代）就任
NGKプリンターセラミックスを設立
NGKロックポリマーインシュレーターズ（米国）を設立
- 1996
NGKモールドとNGKベアロンを合併してNGKファインモールドを設立
NGKセラミックスインドネシアを設立
NGK唐山電瓷（中国）を設立
- 1997
中期経営計画「EXCÉL－01」を策定
サイアムNGKテクノセラ（タイ）を設立
- 1998
NGKプリンターセラミックス山梨工場（現NGKセラミックデバイス山梨工場）が竣工
- 2000
NGKセラミックスサウスアフリカを設立
- 2001
NGK（蘇州）環保陶瓷（ACC、中国）を設立
NGK（蘇州）精細陶瓷器具（中国）を設立
- 2002
松下雋社長（第10代）就任
FMインダストリーズ（FMI、米国）の経営権を取得
NGKオートモーティブセラミックスUSAを設立
- 2003
旭テックの株式を米投資ファンドに譲渡
NGKセラミックスポーランド（ACP）を設立
ビルラNGKインシュレーターズ（インド）を設立
- 2005
取締役会を改革し、執行役員制度を導入
- 2006
NGK（蘇州）電瓷（NGK蘇州、中国）を設立
- 2007
名古屋市総合体育館のネーミングライツを取得
鳥羽総合研修センターが完成
NGK水環境システムズを設立
NGKオートモーティブセラミックスコリアを設立
社外取締役制度を導入
NGKインシュレーターズUKを設立
- 2008
NGKセラミックスメキシコを設立
水環境事業を分社化しメタウォーター設立
石川県能美市にハニセラム生産拠点の新設を決定
- 2009
ものづくり構造革新スタート
- 2010
ニューデリー事務所（インド）を開設
- 2011
加藤太郎社長（第11代）就任
NAS電池の火災事故が発生
NGKグループ企業行動指針を改定
- 2012
厚生労働省から子育てサポート企業として認定
FMIが米国メーカーから半導体製造装置関連事業を買収
ACPに大型ハニセラム新工場の建設を決定
- 2013
競争法ハンドブックを発行
- 2014
大島卓社長（第12代）就任
NGK蘇州の解散を決定
ACPでガソリン・パティキュレート・フィルター（GPF）の量産化を決定
- 2015
NGKエレクトロデバイスをグループ会社化
ACP第2工場の新設を決定
石川にNOxセンサー用素子工場新設を決定
NGKテクノロジーズインディアを設立
NGKセラミックスタイランドを設立
自動車用触媒担体の取り引きに関して反トラスト法違反などで米国司法省と司法取引に合意
- 2016
ACCでGPF生産を発表
- 2017
FMIが新工場を開設
25年ぶりに一般職人事制度を改定
65歳定年制を導入
岐阜県多治見市に半導体製造装置用セラミック製品の新工場の建設を決定
ロックインシュレーターズ（米国）の解散を決定
ACCの第2工場の建設を決定
- 2018
プロセステクノロジー事業本部を新設し4事業本部制へ
ガイシなど電力事業本部製品の受渡検査に関する不整合について発表
危険体感予知道場で体感教育を開始
- 2019
NGKグループ企業行動指針を改定
NGKグループ理念を発表
NGK唐山の解散を決定
- 2021
小林茂社長（第13代）就任
中長期ビジョン「NGKグループビジョン Road to 2050」を策定
- 2023
NGKグループ企業行動指針を改定し、NGKグループ行動規範を制定
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