ニュース 2026年

「第11回 高機能セラミックス展」に出展
NGKのセラミック技術の系譜を展示

お知らせ製品・技術

NGKは、2026年9月30日(水)から10月2日(金)に幕張メッセ(千葉県千葉市)で開催される「第17回高機能素材Week / 第11回 高機能セラミックス展」に出展します。

 高機能セラミックス展は、セラミックス材料や成型・加工等の先進技術が出展される専門展示会です。当社は、長年受け継いできたセラミック技術の系譜と、それを基盤として当社が取り組む最先端の研究テーマをご紹介します。また、会場内では基調講演に加え、当社若手技術者によるショートプレゼンテーションも予定しています。本展示会を通じて、皆さまとの共創・協業の可能性を広げ、新たな価値創出に取り組んでまいります。

展示会概要

展示会名第11回 高機能セラミックス展
期間2026年9月30日(水)~ 10月2日(金)10:00 ~ 18:00(最終日のみ17:00終了)
会場幕張メッセ(小間番号41-1)
公式サイト第11回 高機能セラミックス展
来場者URL入場用バッジ登録フォーム
  • 上記URLから事前登録をお願いいたします。

セミナー講演概要

AI半導体マテリアルWorld 基調講演

日時2026年9月30日(水)13:30 ~ 14:15
場所幕張メッセ内特設会場
タイトルAI時代を支える材料技術の最前線 ―NGKが挑む材料イノベーションー
講演者執行役員 研究開発本部 機能セラミックス統括部 吉野 隆史
講演内容AIの急速な普及により、半導体・データセンター・通信技術は大きな変革期を迎えている。本講演では、NGKの長期経営計画2035を起点に、デジタル社会の進化を支える材料イノベーションと、半導体、光電融合、次世代情報インフラに向けた研究開発の取り組みと将来像を紹介する。
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高機能素材Week 基調講演

日時2026年10月2日(金)12:15 ~ 13:00
場所幕張メッセ内特設会場
タイトルNGKのセラミックス材料開発におけるMI活用事例と今後の展望
講演者研究開発本部 基盤技術統括部 基盤技術3部長 横山 昌平
講演内容NGKでは、セラミックス材料開発の効率化・加速に向け、マテリアルズインフォマティクス(MI)の活用を推進している。本講演では、過去データ活用、高速実験、AIによる開発事例を紹介するとともに、セラミックス材料特有の課題や取り組み、今後の技術開発の方向性について紹介する。
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ブース内ショートプレゼンテーション発表概要

日時2026年9月30日(水)~ 10月2日(金)
終日(1回5分、30分ごとに実施予定)
場所NGKブース内特設ステージ(小間番号41-1)
発表者弊社研究開発本部所属職員
発表内容今回展示する各研究開発テーマの見どころや取り組みに関し、若手社員によるプレゼンテーションを実施。現在の取り組み事例を紹介し、今後の可能性や用途展開等を訴求する。

 

出展製品

ハイセラムキャリア

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ハイセラムキャリア

 高透光性と高剛性を兼ね備えた高純度アルミナ基板です。半導体デバイスの製造工程で、素子の仮固定用に使用され、基板の厚みと反り形状を高精度に制御し、デバイスの高性能化に貢献します。

高熱伝導ダイヤモンド複合材

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高熱伝導ダイヤモンド複合材

 熱課題が深刻化するAIや光通信・光電融合・パワー半導体などの分野に向けて、単一素材の限界を超える放熱性と熱応力低減の両立を実現します。

有機無機ハイブリッド隔膜

 高分子多孔基材へのセラミックス充填により、薄さと柔軟性、緻密性を実現します。液体透過性とガスバリア性を両立し、ニッケル亜鉛電池の長寿命化や水電解の高効率化が期待されます。

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有機無機ハイブリッド隔膜(ロール形状)
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有機無機ハイブリッド隔膜

Cr2O3テンプレート

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Cr2O3テンプレート

 結晶欠陥を抑えたα-Ga₂O₃膜を形成するためのエピタキシャル成長用基板です。デバイスの電流の漏れを抑え、高い耐圧性能を実現します。

  • 酸化ガリウム。次世代パワーデバイス向けに有望な半導体素材の一つ。

その他出展品リスト

  • サブナノセラミック膜
  • 高熱伝導ハニカムリアクター
  • 複合ウエハー(光学用、無線通信用、光量子コンピューター用)
  • 高周波デバイス用窒化物ウエハー

以上