ニュース 2026年

第5回プロセス化学国際シンポジウム（ISPC2026）でセラミック反応器に関する研究成果を発表

お知らせ

2026年06月29日

NGKは、2026年7月1日（水）から3日（金）までアクトシティ浜松で開催される「第5回プロセス化学国際シンポジウム（ISPC 2026）」に参加し、セラミック反応器に関する研究成果を発表します。

学会概要

学会名	International Symposium on Process Chemistry (ISPC 2026)
主催者	日本プロセス化学会（JSPC）
期間	2026年7月1日（水）～ 3日（月）
会場	アクトシティ浜松
公式サイト	第5回プロセス化学国際シンポジウム（ISPC 2026）

発表概要

日時	2026年7月3日（金）13:30 ～ 15:00
タイトル	Thermal Control in Flow Synthesis Enabled by Silicon‑Infiltrated High‑Thermal‑Conductivity Si–SiC Cartridges
発表者	NGK：金武孝幸^※、丹羽孝介、玉串泰吾岐阜薬科大学：井川貴詞、繁田尭、市川智大、櫻田直也、内藤光愛知工業大学：佐治木弘尚
発表内容	医薬・ファインケミカル分野においてフロー合成の導入が進む一方、発熱反応ではヒートスポットの発生により反応器内で温度ムラが生じ、転化率の低下や副生成物の生成、触媒劣化の要因となることが課題となっています。NGKはこれらの課題に対し、高熱伝導性セラミックス（Si含浸SiC）をベースとし、内部構造としてハニカム構造と三次元網目構造を有するセラミック反応器を開発しています。これらの構造により、除熱および攪拌効果が期待され、高発熱反応における安定的な連続生産への適用が期待できます。

※ポスター講演者

以上

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