
| 2009年03月18日 | 新型加熱装置が日本機械学会東海支部賞を受賞 |
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次の各種分野での焼成・乾燥プロセス装置の提案、各種条件でのテスト焼成も実施しています。高温焼成、低温加熱、クリーン環境下での乾燥、各種雰囲気加熱、低酸素濃度下での加熱、低露点加熱、赤外線加熱などの各種条件による試験が可能です。
低酸素濃度・低露点管理下での加熱試験も対応可能です。ご相談ください。
日本ガイシはセラミック製造技術で培った焼成炉・乾燥炉技術について、さまざまな研究開発を重ね、蓄積したノウハウと高度な焼成炉・乾燥炉技術で、お客様のニーズに応える加熱装置・製品提案を行っています。近年では独自の焼成・乾燥・加熱シミュレーションシステムを用いた焼成炉や乾燥炉の省スペース・省エネ提案や、製品の加熱予測・焼成炉・乾燥炉内の雰囲気予測などの提案も行っています。2008年4月に愛知県半田市に開設した「加熱試験場(テストラボ)」では要求仕様に応じた各種加熱試験・テスト焼成(高温焼成・100℃近傍の低温赤外線・熱風加熱・低露点加熱、低酸素濃度、各種雰囲気加熱など)も行っています。
日本ガイシ独自加熱技術について詳しくは「テクニカルデータ」をご覧ください。
日本ガイシが得意とする「セラミックス技術」と独自に開発した「パルス・プラズマ技術」を融合させた新しい「大気圧プラズマ表面処理」を提案します。
展開技術について詳しくは「テクニカルデータ」をご覧ください。

日本ガイシのローラーハースキルンは、リチウム電池正極材・ニッケル超微粉・各種蛍光体などの高温粉体焼成炉としての実績が多く、独自のフラット天井構造や長尺セラミックローラーによる多列ローラー搬送の実現、厳密な雰囲気制御(窒素打ち込みで酸素濃度50ppm以下)も行うことができます。試験場には10mタイプの試験機を用意しており、各種焼成試験にも対応いたします。
(用途:リチウムイオン電池電極材料焼成用・各種蛍光体材料焼成用・LTCC焼成用・セラミックコンデンサー焼成用・フェライト・マグネット焼成用・ガラス基板焼成用・各種衛生陶器焼成用など)
クラス1000以下の高いクリーン度に対応したPDP(プラズマディスプレイパネル)ガラス基板用の焼成炉と乾燥炉です。炉の基幹部品には、ローラー用高鋼性材料や高効率の遠赤外線ヒーターなどの日本ガイシ製品を採用し、性能と品質の両面で強化を図っています。
セル量産試験焼成炉は、太陽電池セルの電極焼付け用試験焼成炉です。ロード・アンロード設備も併設し、搬送確認もできます。量産炉とほぼ同型で、メンテナンス方法についても試験炉で確認できます。
ガラス基板などの各種薄板ワーク用の炉と、炉の前後室で構成。前後室が密閉構造のため炉内雰囲気を保ったままワークの連続式クリーン加熱が可能です。搬送系には日本ガイシ独自のビーム・ワイヤーによる端面支持タイプの搬送を採用することでワークの昇温や降温レートの向上と、短時間高速焼成を実現します。
薄板ワークの加熱特性を連続式で処理する連続4室加熱試験炉です。ワークへの電極ペースト印刷後の乾燥・焼付試験など、各種用途に活用できます。4室を個別に制御し、搬送ビームスピードを可変とすることで、高速焼成を含めた多様なプロファイル作成が可能になります。
各種フィルムの加熱や塗工乾燥に使用するフィルム加熱試験炉です。特殊雰囲気下での加熱搬送にも対応し、最高温度500℃という高温加熱処理も可能です。日本ガイシ独自の加熱技術により生み出された出入口ラビリンス機構が雰囲気ガスの大幅削減と精度の高い雰囲気加熱乾燥試験を実現します。
有機EL乾燥剤などの基板塗布、乾燥、洗浄の工程をトータルで実施できる装置です。各工程とも個別に酸素濃度、露点管理が可能なうえ、乾燥工程では、赤外線ヒーターと基板端面支持の採用により、昇温・降温レートの向上や短時間乾燥を実現します。
シャトルキルンは、製品を乗せた台車を炉内に収納したまま焼成するバッチ式の焼成炉です。日本ガイシは、酸化焼成炉に加え、還元雰囲気炉にも対応。また、最高温度1800℃の高温焼成も提供します。
遠赤外線加熱システムは、日本ガイシが独自に開発したセラミック製ヒーター インフラスタイン、インフラセラムを用いた輻射伝熱式の加熱システムです。電波の一種である遠赤外線を用いて製品に直接熱を伝えるためエネルギーロスが少なく、効率的な加熱ができます。
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