産業用機器・装置

真空雰囲気バッチ炉

真空雰囲気バッチ炉

特長

  • グローブボックスを併設
    サンプルのセット、加熱、密封までを大気暴露なしで可能
  • 窒素雰囲気下での加熱が可能
    ・O2 濃度10 ppm 以下
    ・露点-60℃(10 ppm)以下
  • 減圧加熱が可能
    ・炉内100 Pa 以下
    ・グローブボックス内500 Pa 以下

仕様

炉形式 バッチ炉 塗工条件 アプリケーター
スピンコーター
スクリーン印刷
雰囲気温度 200℃
雰囲気 大気、真空(炉内 100 Pa)
N2 雰囲気(O2 濃度 10 ppm、露点-60℃)
ワーク条件 樹脂フィルム、金属フィルム、ガラス
25 mm×9 枚 Max 120 mm
加熱源 波長制御ヒーター
遠赤プレートヒーター
その他(付帯設備) グローブボックス、ゲートバルブ
パスボックス(260 W×330 D×260 H)
炉サイズ 500 W×700 D×350 H

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産業プロセス事業部営業部新商品G