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半導体製造装置用セラミックス

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概要

半導体製造装置用セラミックス

ファインセラミックスは金属やプラスチックに比べて強度、耐食性、耐熱性に優れるなど、魅力的な特徴を持つマテリアルです。

日本ガイシでは、これらの特徴を最大限に引き出し、種々の産業に応用しています。なかでも半導体製造プロセスに大きな変革をもたらす加熱ヒーターや静電チャックなど、ファインセラミックスの持つ無限の可能性を引き出しています。

特長

半導体製造に欠かせない化学気相成長(CVD)やエッチングのプロセス。ここで使用される装置にはシリコンウエハーを保持し、均一に加熱し、しかもガスやプラズマには腐食されにくい、といったことが要求されます。日本ガイシはこれらの要求に応えるべく、窒化アルミニウム(AlN)セラミックスを中心に材料の持つ特徴を引き出し、半導体製造装置に使用される静電チャック、ヒーター、各種パーツを製品化しています。

製品ラインナップ

AlNヒーター

AlNヒーター

高熱伝導のAlNを採用、抵抗発熱体一体焼結により優れた均熱性を提供します。属汚染不純物を大幅に低減。製品詳細へ

静電チャック

静電チャック

高強度、高熱伝導、高耐熱衝撃性能を発揮。当社独自の体積抵抗制御技術により幅広い温度帯域に対応可能。製品詳細へ

各種パーツ

各種パーツ

窒化アルミニウム、アルミナのセラミックスを有し高度な製造技術にてさまざまな形状のパーツを提供しています。製品詳細へ

新しいウインドウを表示します半導体製造装置用セラミックスに関するお問い合わせ

  • HPC事業部営業部 東京営業所
  • 電話番号:03-6213-8789
  • FAX番号:03-6213-8975

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