適用例:各種薄板ワーク(Si・ガラス基板等)
への乾燥剤等の塗布・乾燥・基板洗浄
有機EL乾燥剤等の基板塗布・乾燥・洗浄をトータルで実施できる装置です。
各工程とも酸素濃度、露点管理が可能なうえ、乾燥工程では、近赤外線ヒーターと基板端面支持の採用により、昇温・降温レートの向上や短時間乾燥を実現します。
各室間をロボット搬送し、一連の工程を効率よく行うことができます。また、基板をNGK独自の大気圧プラズマ照射により洗浄することで、撥水性から親水性への表面改質処理を実現、接着剤の塗布や貼り合わせに威力を発揮します。
さらに取り外し可能なカセットにより、雰囲気を保持したままワークの搬入搬出を可能にしました。
| 炉形式 | 真空バッチ炉 |
|---|---|
| 温度 | 基板温度 Max250℃ |
| 雰囲気 | クリーン度クラス100 露点-60℃ |
| 到達真空度 | 乾燥室10Pa以下(30min以内) |
| 搬送速度 | Max600mm/s(ロボット搬送速度) |
| ヒーター種類 | 近赤外線ヒーター |
| 設備外形 | 2740L×2330W×1570H |
| ワーク条件 | Max□300×1.1t×300g |
| 付帯設備 | なし |
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