PDP用焼成炉・乾燥炉｜加熱装置（焼成炉・乾燥炉）｜産業用機器・装置｜製品情報

概要

遠赤外線放射率の高い独自の耐火材料「NEWSIC」を使用、製品を迅速に焼成します。

日本ガイシは、PDP（プラズマディスプレイパネル）を製造するための、高いクリーン度に対応した、ガラス基板用焼成炉及び乾燥炉を1999年に開発し、販売・納入を開始しました。基幹部品には自社製品を採用する事で性能、品質面での強化を図っています。2007年以降は、大型化するガラス基板に対応した技術改良を加え、搬送精度・温度分布等の基本性能の確立を実現しました。

特徴

PDP用焼成炉

クリーン度クラス1000以下に対応: クラス1000以下のクリーン度に対応するため、エアータイト（気密）構造を採用しました。
省エネの取組み：放熱を低減した断熱構造設計: 熱損失の約3割を占める炉壁面からの放熱を低減する為に熱伝達係数の低い高機能断熱材を採用。これにより設備全体での電気使用量を約10%削減する事に成功しました。
新素材「NEWSIC」で迅速焼成: 炉内のマッフル材には遠赤外線放射率の高い「NEWSIC」を使用しており、製品を迅速に加熱することができます。
温度分布の均一化：温度制御回路分割の最適化設計: 基板内の温度分布均一化の為に、シミュレーションを駆使しヒートプロファイルにあわせたヒーター温度制御回路分割の最適化を計っています。また、制御機器メーカーと共同開発した高精度温度調節計を使用しています。
多段搬送により生産性向上: 剛性の高い「NEWSIC」を炉内の製造搬送用ローラーとして使用することにより、大型基板の多段積みを可能とし、生産性を向上させることができます。
基板の高精度搬送：自社製Si-SiC「NEWSIC」ローラーの採用: 耐熱的にはムライト質ローラーでも使用可能ですが、当社では剛性の高い「NEWSIC」を炉内搬送用ローラーとして使用することにより、大型基板の搬送時でもローラーたわみを最小限に抑え、基板搬送の直進性を確保しています。

PDP用乾燥炉

クリーン度クラス1000以下に対応: 炉内をクリーン度1000以下に保つため、HEPAフィルター（高性能微粒子フィルター）を使用。清浄な空気を常時炉内の上方から下方に供給しています。またクリーンなヒーターインフラスタインを使用しています。
クリーン度クラス1000対応：ダウンフロー給排気: 炉内のクリーン度を保つ為、HEPAフィルターを通したエアを炉内上部より給気。ガラス基板塗布物から発生する成分を均一に掃気します。且つ基板温度へ影響を与えないよう均一吹出し流速となる給気構造としております。
遠赤外線を用いた効果的な加熱: 遠赤外線放射率の高いセラミック製ヒーターインフラスタインによる加熱方式を採用しています。製品を直接加熱するため、効率的に乾燥することができます。
迅速・均一乾燥：自社製遠赤外線ヒーター「インフラスタイン」を採用: 遠赤外放射率の高い小型セラミック製ヒーターにより、基板の直接加熱が可能となり迅速な処理、高スループットを実現しました。また小型ヒーターを炉内に多数配置する事で、きめ細かい温度設定と乾燥ムラの低減にも対応しております。